8月6日,SpaceX与特斯拉联合宣布,超级芯片工厂项目Terafab正式落户美国得克萨斯州格莱姆斯县。这座被马斯克称为“地球上最大、最有价值的建筑”的芯片制造设施,规划制造面积超过1亿平方英尺(约930万平方米),一期投资168亿美元,由SpaceX与特斯拉共同出资。远期总投资估算区间最高可达1190亿美元。

Terafab项目诞生的根本原因在于供需之间的巨大鸿沟。SpaceX官方声明指出,SpaceX与特斯拉对芯片的合计需求预计将超过1太瓦(TW)算力,显著高于当前全球供应。马斯克系公司既不愿在先进制程与高带宽内存产能排期上长期等待,也不愿将核心AI硬件完全押注于外部供应商。
这座工厂并非传统意义上的晶圆厂,而是一次将逻辑芯片、DRAM存储、先进封装与测试全部整合在同一地点的垂直一体化尝试。 产出分配上,约25%的算力流向特斯拉Optimus人形机器人与Cybercab自动驾驶出租车,75%服务于SpaceX的轨道AI与太空数据中心。 Terafab最引人注目的技术路线选择集中在光刻环节。项目概念渲染图中,厂区中央出现了一个醒目的圆形结构。 当X平台用户猜测这是否为同步辐射加速器、马斯克是否要采用基于自由电子激光(FEL)的EUV光刻机时,马斯克本人回复了六个字母:“FEL FTW”(Free Electron Laser For The Win)。

这一公开回应确认了Terafab将挑战传统EUV路线,采用自由电子激光作为光刻光源。
自由电子激光与传统激光的原理截然不同。传统激光依赖原子或分子中被束缚的电子在能级间跃迁产生固定波长,而FEL则将电子加速至接近光速,使其穿过波荡器(Undulator)——一组特殊排列的磁铁——在扭动中发出高亮度、高相干性的辐射。 其波长可通过调节电子能量或磁铁强度灵活调整,覆盖从红外到极紫外(EUV)13.5纳米乃至更短波段。 目前全球最先进的芯片量产依赖荷兰ASML的EUV光刻机,其光源采用激光产生等离子体(LPP)技术——用高功率激光轰击液态锡滴产生13.5纳米极紫外光。这套系统支撑了从7纳米到3纳米及更先进节点的量产,但面临功率提升困难、锡碎屑污染光学镜面、每台光刻机需独立配置光源等硬伤。 有趣的是,ASML本世纪初曾认真研究过自由电子激光路线,但最终放弃。如今马斯克选择重启这条被放弃的技术路径。

FEL方案作为EUV光源的潜在优势在于:功率更高、出光更干净、对光学系统污染更少,且一台FEL光源理论上可同时为多台光刻机供光,形成一个中央光源工厂。业界普遍判断,这更像是Terafab产能爬坡之后的升级路线,而非首期即可落地的方案。
在能源供应上,Terafab同样采取了垂直整合策略——配套建设自有天然气发电厂与大规模特斯拉储能系统,芯片制造与电力供应全部自主掌控。 项目预计至少创造3000个直接就业岗位,其中60%至80%优先面向格莱姆斯县及邻近布拉索斯县居民。得克萨斯州州长Greg Abbott宣布项目获得3000万美元德州企业基金拨款,并纳入德州就业、能源、技术与创新计划,配套地方税收减免。 从2026年3月首次公开“太瓦级芯片工厂”概念,到4月在Giga Texas北区动工研究级试点厂,再到8月正式锁定全规模选址,Terafab的推进节奏被压缩到了极短的时间框架内。参考台积电、英特尔的建设周期,晶圆厂从破土动工到良率爬坡通常需要3至5年。 Terafab能否按预期时间表实现年产1太瓦算力的目标,以及自由电子激光光刻技术从物理原理验证走向大规模工业应用还需突破多少工程难题,仍有待时间检验。
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